化学学报
 
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化学学报  2013, Vol. 71 Issue (08): 1111-1117    DOI: 10.6023/A13030326
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Ge2Sb2Te5的化学机械抛光研究进展
何敖东a,b, 刘波a, 宋志棠a, 冯高明c, 朱南飞c, 任佳栋c, 吴关平c, 封松林a
a 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室 上海 200050;
b 中国科学院大学 北京 100083;
c 中芯国际集成电路制造公司 上海 201203
Research and Development of Chemical Mechanical Planarization for Ge2Sb2Te5
He Aodonga,b, Liu Boa, Song Zhitanga, Feng Gaomingc, Zhu Nanfeic, Ren Jiadongc, Wu Guanpingc, Feng Songlinga
a State Key Laboratory of Functional Materials for Informatics, Shanghai Institute of Micro-system and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050;
b University of the Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China;
c Semiconductor Manufacturing International Corporation, Shanghai 201203, China

 
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