[1] Jiang, L. Colloid Chemistry Conspectus, Science Press, Beijing,2002, p. 127 (in Chinese).(江龙,胶体化学概论,科学出版社,北京,2002,p.127.) [2] Huibers, P. D. T. Langmuir 1999, 15, 7546. [3] Huibers, P. D. T.; Lobanov, V. S.; Katritzky, A. R; Shan,D. O.; Karelson, M. J. Colloid Interface Sci. 1997, 187, 113. [4] Luan, Y.-X.; Xu, G.-Q.; Yuan, S.-L.; Li, X.; Zhang, Z.-Q. Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects 2002,210, 61. [5] Wang, Z.-W.; Li, G.-Z.; Zhang, X.-Y.; Li, L. Acta Chim.Sinica 2002, 60, 1548 (in Chinese).(王正武,李干佐,张笑一,李丽,化学学报,2002,60,1548.) [6] Luo, M.-D.; Yan, X.-C.; Zhang, G.-Y. China Surfactant Detergent & Cosmetics 2002, 32 (3), 5 (in Chinese).(罗明道,颜肖慈,张高勇,日用化学工业,2002,32(3),5.) [7] Yan, X.-C.; Li, X.-F.; Luo, M.-D.; Zhang, G.-Y. J.Wuhan University (Nat. Sci. Ed.), 2002, 48, 655.)(颜肖慈,李学丰,罗明道,张高勇,武汉大学学报(理学版),2002,48,655.) [8] Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G.E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Zakrzewski, V. G.;Montgomerg, J. A.; Stratmann, R. E. Jr.; Burant, J. C.;Dapprich, S.; Millam, J. M.; Daniels, A. D.; Kudin, K. N.;Strain, M. C.; Farkas, O.; Tomas, J.; Barone, V.; Cossi,M.; Cammi, R.; Mennucci, B.; Pomelli, C.; Adamo, C.;Clifford, S.; Ochterski, J.; Petersson, G. A.; Agala, P. Y.;Cui, Q.; Morokuma, K.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.;Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Cioslowski, J.; Oritizi, J.V.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenico, A.; Piskorz, P.;Komaromi, I.; Gomperts, R.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanagakkara, A.;Gonzalez, C.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson,B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Andres, J. L.; Gonzalez, C.;Head-Gordon, M.; Replogle, E. S.; Pople, J. A. Gaussian 98,Revision A.6, Gaussian Inc., Pittsburgh PA, 1998. [9] Wong, M.-W.; Frisch, M.-J.; Wiberg, K.-B. J. Am. Chem.Soc. 1991, 113, 4776. [10] Zhu, B.-Y.; Zhao, Z.-G. Interface Chemistry Basic, Chemical Industry Press, Beijing, 1996, p. 79 (in Chinese).(朱砂瑶,赵振国,界面化学基础,化学工业出版社,北京,1996,p.79.) |