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化学学报 ›› 1981, Vol. 39 ›› Issue (4): 362-366. 上一篇 下一篇
研究简报
赵藻藩
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ZHAO ZAO-FAN
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配位体缓冲溶液是由配位体和过量金属离子组成的.它是常用的掩蔽剂之一,尤以我国应用较多.Tanakan[1]首先引入“配位体缓冲溶液”的概念,并将配位体平衡式按Taylor级数展开,得到配位体浓度与缓冲组分比的近似关系式,从而得出某些重要结论.本文采用Ringbom[2]处理副反应的方法,对配位体缓冲溶液重新加以研究,并提出缓冲容量的新的定义及其计算公式.
Investigations on the ligand buffer solutions by Ringbom's method have been reported. The highest permissible and optimum acidity is roughly determined by log K'ML≥pC and log K'ML≥pC+2 respectively.
赵藻藩. 配位体缓冲溶液的理论考察[J]. 化学学报, 1981, 39(4): 362-366.
ZHAO ZAO-FAN. THEORETICAL EXAMINATIONS ON LIGAND BUFFER SOLUTIONS[J]. Acta Chimica Sinica, 1981, 39(4): 362-366.
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