用高、低分辨质谱,重氢标记和亚稳跃迁研究了代缩氨脲和缩氨基硫脲类衍生物的质谱碎行为。结果表明,分子离子的丰度、基峰离子的生成方式以及碎非离子的种类、丰度和数量主要取于取代基R的诱导效应和共轭效应的综合影响。质谱的碎裂特征是:(1)当R为N(CH2)2,OH分子的电子云分布均匀,共轭性好,基峰为分子离子峰。(2)当R为H,F时缩氨基脲8-N位缺子最甚,导致9-N和10-C之间键的断裂,生成的高稳定离子ρ-RC6H4CH=N[+]=NH为墓峰。缩氨基硫脲类衍生物,因电子云分布均匀,基峰仍为分子离子峰。(3)当R为Br,NO2时,由于诱效应强烈,分子的电子云分布不均匀,12-O(或12-S)成为缺电子最甚的原子,8-N和9-N之间键裂、重排而生成的离子-HNC(NH2)=XH]:(X=O,S)为基峰。(4)H-NH2基团重排到苯环5位上,生成离子(O-RC6H4NH2).+[1]。只有当R为H时,反应最易反生。R为强电子基或强极电基,对反应都不利。
中图分类号:
