化学学报 ›› 2011, Vol. 69 ›› Issue (07): 848-852. 上一篇 下一篇
研究论文
李涛*,1,周春兰1,宋洋2,张磊3,惠俊3,杨海峰4,郜志华2,段野2,李友忠2,励旭东5,许颖5,赵雷1,刘振刚1,王文静1
Li Tao*,1 Zhou Chunlan1 Song Yang2 Zhang Lei3 Hui Jun3 Yang Haifeng4 Gao Zhihua2 Duan Ye2 Li Youzhong2 Li Xudong5 Xu Ying5 Zhao Lei1 Liu Zhengang1 Wang Wenjing1
自对准的光诱导化学镀/电镀技术以其栅线宽度小、工艺快捷高效等优点, 成为制备选择性发射极太阳能电池的理想选择. 然而, 该技术的前序需要HF溶液有效去除重掺杂区表面SiO2的同时, 避免在SiNx:H掩模上刻蚀出微孔而露出衬底的硅, 否则金属镍和银会在光诱导化学镀/电镀工艺中沉积在微孔中, 导致过镀现象. 这就要求预处理溶液对SiO2/SiNx:H有很高的选择性刻蚀. 本工作根据实验结果分析了产生过镀现象的原因, 研究了进行SiO2/SiNx:H选择性刻蚀的可行性. 依据HF刻蚀SiO2和SiNx:H的机理, 通过调节HF缓释溶液的pH值, 改善了多晶硅太阳能电池的过镀现象.
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