在各种絡合剂存在下研究金属离子由溶液中水解沉淀的pH值,可得出各該絡合剂对金属离子水解沉淀的隐蔽能力的次序。王夔[1]曾指出其在分析化学上的实际意义,且絡合剂的隐蔽能力不能簡单地由絡合物稳定常数来估量。本文报告用碱滴定法測定各种絡合剂对鋁(Ⅲ)、镓(Ⅲ)及铊(Ⅲ)水解沉淀的隐蔽作用。
引用此文
韓维屏. 金属离子水解沉淀反应的隐蔽 Ⅳ.鋁(Ⅲ)、镓(Ⅲ)及铊(Ⅲ)的隐蔽[J]. 化学学报, 1964, 30(4): 422-425.
HAN WEI-PING. THE MASKING OF HYDROLYTIC PRECIPITATION REACTION OF METALLIC IONS Ⅳ. THE MASKING OF ALUMINIUM(Ⅲ), GALLIUM(Ⅲ) AND THALLIUM(Ⅲ) IONS[J]. Acta Chimica Sinica, 1964, 30(4): 422-425.
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