化学学报 ›› 2011, Vol. 69 ›› Issue (03): 262-268. 上一篇 下一篇
研究论文
马永钧*,杨梅霞,王伟峰,周敏,刘婧,李婷婷,陈慧
MA Yong-Jun, YANG Mei-Xia, WANG Wei-Feng, ZHOU Min, LIU Jing, LI Ting-Ting, CHEN Hui
首次用电沉积法制备了Nd-Fe-WO 氰桥混配物修饰铂电极(Nd-Fe-WO /Pt), 并通过SEM和XRD技术分别表征了该修饰电极的表面形貌和修饰物的晶相结构. 采用循环伏安法和计时电流法研究了甲酸在该修饰电极上的电氧化行为, 实验发现甲酸在修饰电极上的电催化氧化电流密度与裸铂电极相比增加了10余倍, 而且CV回扫阳极电位边界对属于吸附中间体的反扫峰形状有很大影响. 此外, 还研究了支持电解质中H+和SO 浓度变化对甲酸氧化过程伏安特性的影响. 结果表明: 甲酸电催化主氧化峰的电位随H+浓度的增加而正向移动, 随SO 浓度增加而负向移动|当这两种离子共存时, H+的影响起主导作用. 这表明甲酸在该修饰电极上电催化氧化反应的速率控制步骤是脱质子过程, 而且SO /HSO 在电极表面的吸附有利于氧化反应正向进行. 以上结论为解释甲酸的电催化氧化机理提供了新的实验依据. 同时, 计时电流曲线和电极稳定性实验均表明该修饰电极对甲酸的电催化氧化过程具有良好的催化活性和抗毒化能力.