[1] Cui, J.-J.; Xia, X.; Liu, H.-T. Acta Chim. Sinica 2004, 62, 1595. (崔静洁, 夏熙, 刘洪涛, 化学学报, 2004, 62, 1595.)
[2] Chen, J.; Cheng, F.-Y. Acc. Chem. Res. 2009, 42, 713.
[3] Chen, F.-B.; Wu, B.-R.; An, W.-F.; Yang, Z.-J.; Wu, F.; Chen, S. Electrochemistry 2010, 16, 39. (陈飞彪, 吴伯荣, 安伟峰, 杨照军, 吴峰, 陈实, 电化学, 2010, 16, 39.)
[4] Cui, J.-B.; Zhang, Y.; Wang, J.-X. New Technology & New Process 2010, (9), 81. (崔俊博, 张勇, 王晶星, 新技术新工艺, 2010, (9), 81.)
[5] Leng, Y.-J.; Zhang, J.-Q.; Cheng, S.-A.; Cao, C.-N. Acta Chim. Sinica 1998, 56, 557. (冷拥军, 张鉴清, 成少安, 曹楚南, 化学学报, 1998, 56, 557.)
[6] Li, W.-Y.; Cai, F.-S.; Gou, X.-L.; Gao, F.; Chen, J. Acta Chim. Sinica 2005, 63, 411. (李玮瑒, 蔡锋石, 苟兴龙, 高峰, 陈军, 化学学报, 2005, 63, 411.)
[7] Bernard, M. C.; Cortes, R.; Keddam, M.; Takenouti, H.; Bernard, P.; Senyarich, S. J. Power Sources 1996, 63, 247.
[8] Watanabe, K.; Kikuoka, T. J. Appl. Electrochem. 1995, 25, 219.
[9] Yang, D.-N.; Wang, R.-M.; He, M.-S.; Zhang, J.; Liu, Z.-F. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 7654.
[10] Sun, H.-F.; Jiang, W.-Q.; Yu, L.-M.; Fu, Z.-Z.; Guo, R.-G.; Li, T.; Yang, H. Mater. Rev. 2011, 25, 49. (孙海峰, 蒋文全, 于丽敏, 傅钟臻, 郭荣贵, 李涛, 杨慧, 材料导报, 2011, 25, 49.)
[11] Liu, B.-H.; Yu, S.-H.; Chen, S.-F.; Wu, C.-Y. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 4039.
[12] Michael, R.; Kamath, P. J. Power Sources 1998, 70, 118.
[13] Yang, D.-N.,; Wang, R.-M.; Zhang, J.; Liu, Z.-F. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 7531.
[14] Dong, L.-H.; Chu, Y.; Sun, W.-D. Chem. Eur. J. 2008, 14, 5064.
[15] Sun, D.-H.; Zhang, J.-L.; Ren, H.-J.; Cui, Z.-F.; Sun, D.-X. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 12110.
[16] Uwe, K.; Christina, A.; Peter, B. J. Power Sources 2004, 127(1-2), 45.
[17] Li, H.; Ma, J. J. Chem. Mater. 2006, 18, 4405.Newman, S. P.; Jones, W. New J. Chem. 1998, 22, 105.
|