镍铂修饰n型硅电极光电解析氧

摘要/Abstract

本文以n/n^+-Si半导体为基底, 通过碱溶液刻蚀处理和Ni/Pt双层金属膜表面修饰后作为光阳极, 用于1.0mol·dm^-^3KOH溶液中光助电解水析氧。在恒电势1.0V(相对HgO/Hg电极)和90mW·cm^-^2光照射下, 最佳电极的析氧电流达到65.2mA·cm^-^2, 稳定性实验表明, 连续光照不超过200小时, 光电极具有良好的抗腐蚀性。对电极表面进行了X-光电子能谱(ESCA)分析。

关键词: 铂, 镍, 光电化学, 光电极, 光阳极, 修饰电极, 表面修饰, 其它基金, 光电解析氧, 光电子能谱分析

The splitting of water in a solution containing 1.0mol·dm^-^3KOH is studied based on the semiconductor photoanodes, n/n^+-Si, by alkali-etching and modifying with Ni/Pt dual metal layer. The optimization photocurrent of 65.2mA·cm^-^2 for oxygen evolution is observed at 1.0V (vs. HgO/Hg electrode) with a light intensity of 90mW·cm^-^2. The photoanodes are stable during oxygen continuous evolution for 200 hours. Electrode surface analysis is carried out by using Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (ESCA) system.

Key words: PLATINUM, NICKEL, PHOTO-ELECTROCHEMISTRY, PHOTOELECTROD, MODIFIED ELECTRODE, SURFACE MODIFICATION

中图分类号:

O646
O644

引用此文

李怀祥,李国铮,王士勋. 镍铂修饰n型硅电极光电解析氧[J]. 化学学报, 1996, 54(2): 182-186.

LI HUAIXIANG;LI GUOZHAENG;WANG SHIXUN. A study on water splitting of photoelectrolysis based on n/n^+-Si electrodes[J]. Acta Chimica Sinica, 1996, 54(2): 182-186.

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