分子束弛豫谱研究Ge(111)表面与氯分子热反应动态学

化学学报 ›› 1990, Vol. 48 ›› Issue (9): 85-855. 下一篇

研究论文

分子束弛豫谱研究Ge(111)表面与氯分子热反应动态学

李雨林;蔡中厚;孙令虹;秦启宗

复旦大学激光化学研究室

发布日期:1990-09-15

Dynamics of thermal reaction of Ge(111) surface with molecular chlorine using molecular beam relaxation spectrometry

LI YULIN;CAI ZHONGHOU;SUN LINGHONG;QIN QIZONG

Published:1990-09-15

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摘要/Abstract

本文用分子束弛豫谱研究了Ge(111)表面与氯分子热反应动态学。采用种子束技术,发现增加氯分子的入射平动能, 将有效地增加Cl2与Ge表面的化学蚀刻反应, 对分子束弛豫谱的数据分析表明, 在表面温度Ts为700-900K的范围内, GeCl2为该反应体系的唯一产物, 它的脱附过程是蚀刻反应的速率控制步骤; 并且测得脱附活化能Ed为66.0±2.0kJ·mol^-^1。此外, 对该化学蚀刻的反应机理进行了讨论。

关键词: 反应机理, 氯, 弛豫, 表面化学, 锗, 解吸, 活化能, 分子束, 刻蚀

Key words: REACTION MECHANISM, CHLORINE, RELAXATION, SURFACE CHEMISTRY, GERMANIUM, DESORPTION, ACTIVATION ENERGY, MOLECULAR BEAM, ETCH

中图分类号:

O647

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李雨林,蔡中厚,孙令虹,秦启宗. 分子束弛豫谱研究Ge(111)表面与氯分子热反应动态学[J]. 化学学报, 1990, 48(9): 85-855.

LI YULIN;CAI ZHONGHOU;SUN LINGHONG;QIN QIZONG. Dynamics of thermal reaction of Ge(111) surface with molecular chlorine using molecular beam relaxation spectrometry[J]. Acta Chimica Sinica, 1990, 48(9): 85-855.

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分子束弛豫谱研究Ge(111)表面与氯分子热反应动态学

Dynamics of thermal reaction of Ge(111) surface with molecular chlorine using molecular beam relaxation spectrometry

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