化学学报 ›› 2021, Vol. 79 ›› Issue (4): 443-458.DOI: 10.6023/A20100475 上一篇 下一篇
综述
吕玉苗a, 陈伟a,b, 王艳磊a, 霍锋a, 董依慧a, 魏莉b,*(), 何宏艳a,*()
投稿日期:
2020-10-15
发布日期:
2020-11-24
通讯作者:
魏莉, 何宏艳
作者简介:
吕玉苗, 女, 助理研究员, 主要从事离子液体表界面结构、性质及应用研究. 2017年获得中国科学院物理研究所和香港城市大学博士学位, 同年加入中国科学院过程工程研究所从事助研工作, 发表SCI论文11篇, 主持国家自然科学基金青年科学基金1项, 参与国家自然科学基金委重大项目1项. |
陈伟, 男, 大连工业大学轻工与化学工程学院在读硕士研究生, 中国科学院过程工程研究所联合培养硕士, 研究方向为离子液体二维结构在固体表界面的结构及性质. |
魏莉, 女, 副教授, 硕士生导师. 2004年获得大连理工大学应用化学专业博士学位. 主要从事以离子液体为基质的有机催化、生物基材料合成, 离子液体电池等研究. 主持辽宁省教育厅项目1项, 辽宁省科技厅项目1项, 参加国家“973”子课题项目1项, 国家自然科学基金项目1项, 教育部重点项目1项, 省级项目4项, 市级3项, 发表论文20余篇. |
何宏艳, 女, 研究员, 博士生导师, 国家自然科学基金优秀青年基金获得者. 主要从事界面离子液体结构与功能、离子液体特殊氢键与反应性能、离子液体催化木质素/CO2转化等方向的研究工作. 相关研究成果在Chem、Small、Chem. Eng. Sci.、Green Chem.、PCCP等期刊发表SCI论文80余篇, 申请发明专利17项, 获授权6项. 主持国家自然科学基金项目、北京市基金和中科院基金等多项. 获侯德榜化工技术青年奖、中国化工学会离子液体专委会青年创新奖、中科院科技促进发展奖及中国石油和化学工业协会科学技术奖等多项. 2017年入选中科院青年创新促进会. |
基金资助:
Yumiao Lua, Wei Chena,b, Yanlei Wanga, Feng Huoa, Yihui Donga, Li Weib,*(), Hongyan Hea,*()
Received:
2020-10-15
Published:
2020-11-24
Contact:
Li Wei, Hongyan He
About author:
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由于阴阳离子间特殊的静电、氢键作用, 具有二维结构的离子液体呈现出独特的结构特征及热力学、动力学特性, 在化学化工和材料领域都有着巨大的应用前景, 已成为离子液体领域重要的研究方向之一. 本综述重点介绍了离子液体二维结构常用的制备方法, 包括自组装法、Langmuir-Blodgett法以及物理气相沉积法, 并总结了这些制备方法相应的优缺点. 随后归纳了离子液体二维结构的相变特征及在力学和电学方面的特性, 并综述了其在摩擦润滑领域的应用. 最后展望了离子液体二维结构的发展方向及应用前景.
吕玉苗, 陈伟, 王艳磊, 霍锋, 董依慧, 魏莉, 何宏艳. 离子液体二维结构制备及其特性研究进展[J]. 化学学报, 2021, 79(4): 443-458.
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离子液体 | 基底 | 溶剂a | 方法 | 参考文献 |
---|---|---|---|---|
[Emim][NTFI] | 云母 | — | 润湿法 | [ |
[Emim][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF (2,3-二氢十氟戊烷) | 浸涂法 | [ |
[Pmim]Br | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Pmim]CO3 | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Pmim]Cl | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Pmim] SO3 | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Bmim][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF | 浸涂法 | [ |
[Bmim][PF6] | 云母 | CH3OH | 滴涂法 | [ |
氧化Si(100) | (CH3)2CHOH | 浸涂法 | [ | |
Si(100) | (CH3)2CHOH | 浸涂法 | [ | |
羟基化/氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
HOPG | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
羟基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
[Bmim][NTFI] | SiO2/Si(110)/云母/HOPG | CH3OH | 滴涂法 | [ |
Si/SiO2/MgO/ 云母/TiO2/NaCl | CH3OH/C2H5OH/CHCl3 | 滴涂法 | [ | |
云母 | — | 润湿法 | [ | |
氧化Si(110)/SiO2 | CH3OH | 滴涂法 | [ | |
羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
[Bmim][BF4] | 羟基化/氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
[Bmim][OctSO4] | 氧化Si(100) | (CH3)2CHOH | 浸涂法 | [ |
[Bmim][Apc] | 羟基化/氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[Bmim][ClO4] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[Bmim][NO3] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[Hmim][NTFI] | 云母 | — | 润湿法 | [ |
羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
[Hmim][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF | 浸涂法 | [ |
[Omim][BF4] | Al | C2H5OH | 旋涂法 | [ |
[Dmim][NTFI] | 羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ |
[Dmim][PF6] | 羟基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[BPtmSiIm][BMdB] | 羟基化Si | CH3COCH3 | 旋涂法 | [ |
硫醇端基IL | Au | C2H5OH | 浸入法 | [ |
巯基IL | Au | C2H5OH | 浸入法 | [ |
咪唑IL-COOH | 氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
咪唑磷酸盐IL | 羟基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
羟乙基IL | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
双阳离子IL | Si(100) | (CH3)2CHOH | 浸涂法 | [ |
[AEImi]Cl | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[MOEDEA][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF | 浸涂法 | [ |
[AHIm][PF6] | 羟基/乙烯基/氢化/甲基化Si | CH2Cl2 | 旋涂法 | [ |
[HEHIm][PF6] | 羟基/乙烯基/氢化/甲基化Si | CH2Cl2 | 旋涂法 | [ |
[P4446][BF4] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[BPy][BF4] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
离子液体 | 基底 | 溶剂a | 方法 | 参考文献 |
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[Emim][NTFI] | 云母 | — | 润湿法 | [ |
[Emim][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF (2,3-二氢十氟戊烷) | 浸涂法 | [ |
[Pmim]Br | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Pmim]CO3 | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Pmim]Cl | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Pmim] SO3 | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[Bmim][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF | 浸涂法 | [ |
[Bmim][PF6] | 云母 | CH3OH | 滴涂法 | [ |
氧化Si(100) | (CH3)2CHOH | 浸涂法 | [ | |
Si(100) | (CH3)2CHOH | 浸涂法 | [ | |
羟基化/氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
HOPG | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
羟基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
[Bmim][NTFI] | SiO2/Si(110)/云母/HOPG | CH3OH | 滴涂法 | [ |
Si/SiO2/MgO/ 云母/TiO2/NaCl | CH3OH/C2H5OH/CHCl3 | 滴涂法 | [ | |
云母 | — | 润湿法 | [ | |
氧化Si(110)/SiO2 | CH3OH | 滴涂法 | [ | |
羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
[Bmim][BF4] | 羟基化/氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ | |
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[Bmim][NO3] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[Hmim][NTFI] | 云母 | — | 润湿法 | [ |
羟基化SiO2 | CH3OH | 旋涂法 | [ | |
[Hmim][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF | 浸涂法 | [ |
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硫醇端基IL | Au | C2H5OH | 浸入法 | [ |
巯基IL | Au | C2H5OH | 浸入法 | [ |
咪唑IL-COOH | 氨基化Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
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[AEImi]Cl | 羟基化Si(100) | C2H5OH | 浸涂法 | [ |
[MOEDEA][FAP] | 氢化的类金刚石膜/Si | Vertrel XF | 浸涂法 | [ |
[AHIm][PF6] | 羟基/乙烯基/氢化/甲基化Si | CH2Cl2 | 旋涂法 | [ |
[HEHIm][PF6] | 羟基/乙烯基/氢化/甲基化Si | CH2Cl2 | 旋涂法 | [ |
[P4446][BF4] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
[BPy][BF4] | Si(100) | CH3COCH3 | 浸涂法 | [ |
离子液体 | 基底 | 除气温度a T/K | 除气时间b t/h | 压强 p/Pa | 蒸发温度 T/K | 蒸发时间c t/min | 基底温度 T/K | 结构稳定 温度T/K | 参考 文献 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
[BMP][FAP] | Au(111) | 438~463 | N | 4×10–8 | 450 | 10 s | 298 | 210 | [ |
[BMP][NTFI] | Ag(111) | — | 24 | 1×10–8 | 373 | 3 | — | 100~180 | [ |
TiO2(110) | 350 | 24 | 2×10–8 | 453 | 5 | — | 80~380 | [ | |
Au(111) | 360 | N | 5×10–8 | 375 | 3 | — | 111~170 | [ | |
Ag(111) | 360 | N | 5×10–8 | 375 | 3 | — | 134~180 | [ | |
Au(111) | — | 24 | 5×10–8 | 375 | 3 | — | 100~225 | [ | |
Cu(111) | 400 | N | 2×10–8 | 450 | — | 200 | 80~200 | [ | |
HOPG(0001) | 400 | N | 2×10–8 | 450 | — | — | 100 | [ | |
[Mmim][NTFI] | Ni(111) | 400 | N | 1×10–8 | 440 | — | 220±20 | 220 | [ |
Au(111) | 380~410 | N | 1×10–7 | 410~440 | — | 290~320 | — | [ | |
Ag(111) | — | — | 2×10–7 | 380~430 | — | 295~320 | 300 | [ | |
[Emim][NTFI] | Au(111) | 350 | 24 | 1×10–8 | 350~390 | — | — | 107~113 | [ |
Ag(111) | 350 | 24 | 1×10–8 | 350~390 | — | — | 108~130 | [ | |
HOPG | — | — | 1×10–6 | — | — | — | 180~205 | [ | |
Ni(111) | 353 | 12 | 1×10–6 | — | — | 150 | 150~200 | [ | |
玻璃 | — | — | 6×10–7 | 320 | 30 | — | — | [ | |
Au(110) | — | — | 5×10–8 | 423~523 | — | 128 | 311~323 | [ | |
[Emim][OTF] | Pd(111) | — | — | 2×10–8 | 220 | — | 220 | 220 | [ |
Au(111) | — | — | 1×10–7 | 440 | — | 298 | — | [ | |
Pd(111) | — | — | 2×10–8 | 300 | — | 298 | 300~380 | [ | |
[Bmim][NTFI] | Al2O3/NiAl(110) | — | — | 2×10–8 | 425~475 | N | — | 298~323 | [ |
[Hmim][NTFI] | CeO2(111)/CeO2–x | — | N | 1×10–8 | 385 | — | 160 | — | [ |
[Omim][NTFI] | Au(111) | 380~410 | N | 1×10–7 | 410~440 | — | 290~320 | — | [ |
Ag(111) | — | — | 2×10–7 | 380~430 | — | 295~320 | 300 | [ | |
Au(111) | 300 | 24 | 1×10–8 | 300~330 | — | — | 102~150 | [ | |
Ag(111) | 300 | 24 | 1×10–8 | 300~330 | — | — | 110~150 | [ | |
Li/Cu(111) | 375 | — | 5×10–7 | 413 | 10 | — | — | [ | |
HOPG | — | — | 5×10–7 | 400 | — | — | 100 | [ | |
Cu(100) | — | — | 5×10–8 | 423~503 | — | — | — | [ | |
Au(111) | — | — | 5×10–8 | 423~503 | — | — | — | [ | |
[Omim][BF4] | Cu(111) | 423/523 | N | 5×10–8 | 423~523 | — | 120 | 120 | [ |
[Omim]NTFI] [Omim][PF6] | Ag(111) | 370~430 | 24 | 8×10–8/3×10–7 | 403~413/ 428~443 | — | — | 90 | [ |
[Omim][PF6] [PFBmim][PF6] | Ag(111) | 370~460 | 24 | 2×10–7/5×10–7 | 423~443/ 443~463 | — | — | 82 | [ |
离子液体 | 基底 | 除气温度a T/K | 除气时间b t/h | 压强 p/Pa | 蒸发温度 T/K | 蒸发时间c t/min | 基底温度 T/K | 结构稳定 温度T/K | 参考 文献 |
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[BMP][FAP] | Au(111) | 438~463 | N | 4×10–8 | 450 | 10 s | 298 | 210 | [ |
[BMP][NTFI] | Ag(111) | — | 24 | 1×10–8 | 373 | 3 | — | 100~180 | [ |
TiO2(110) | 350 | 24 | 2×10–8 | 453 | 5 | — | 80~380 | [ | |
Au(111) | 360 | N | 5×10–8 | 375 | 3 | — | 111~170 | [ | |
Ag(111) | 360 | N | 5×10–8 | 375 | 3 | — | 134~180 | [ | |
Au(111) | — | 24 | 5×10–8 | 375 | 3 | — | 100~225 | [ | |
Cu(111) | 400 | N | 2×10–8 | 450 | — | 200 | 80~200 | [ | |
HOPG(0001) | 400 | N | 2×10–8 | 450 | — | — | 100 | [ | |
[Mmim][NTFI] | Ni(111) | 400 | N | 1×10–8 | 440 | — | 220±20 | 220 | [ |
Au(111) | 380~410 | N | 1×10–7 | 410~440 | — | 290~320 | — | [ | |
Ag(111) | — | — | 2×10–7 | 380~430 | — | 295~320 | 300 | [ | |
[Emim][NTFI] | Au(111) | 350 | 24 | 1×10–8 | 350~390 | — | — | 107~113 | [ |
Ag(111) | 350 | 24 | 1×10–8 | 350~390 | — | — | 108~130 | [ | |
HOPG | — | — | 1×10–6 | — | — | — | 180~205 | [ | |
Ni(111) | 353 | 12 | 1×10–6 | — | — | 150 | 150~200 | [ | |
玻璃 | — | — | 6×10–7 | 320 | 30 | — | — | [ | |
Au(110) | — | — | 5×10–8 | 423~523 | — | 128 | 311~323 | [ | |
[Emim][OTF] | Pd(111) | — | — | 2×10–8 | 220 | — | 220 | 220 | [ |
Au(111) | — | — | 1×10–7 | 440 | — | 298 | — | [ | |
Pd(111) | — | — | 2×10–8 | 300 | — | 298 | 300~380 | [ | |
[Bmim][NTFI] | Al2O3/NiAl(110) | — | — | 2×10–8 | 425~475 | N | — | 298~323 | [ |
[Hmim][NTFI] | CeO2(111)/CeO2–x | — | N | 1×10–8 | 385 | — | 160 | — | [ |
[Omim][NTFI] | Au(111) | 380~410 | N | 1×10–7 | 410~440 | — | 290~320 | — | [ |
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Au(111) | 300 | 24 | 1×10–8 | 300~330 | — | — | 102~150 | [ | |
Ag(111) | 300 | 24 | 1×10–8 | 300~330 | — | — | 110~150 | [ | |
Li/Cu(111) | 375 | — | 5×10–7 | 413 | 10 | — | — | [ | |
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Cu(100) | — | — | 5×10–8 | 423~503 | — | — | — | [ | |
Au(111) | — | — | 5×10–8 | 423~503 | — | — | — | [ | |
[Omim][BF4] | Cu(111) | 423/523 | N | 5×10–8 | 423~523 | — | 120 | 120 | [ |
[Omim]NTFI] [Omim][PF6] | Ag(111) | 370~430 | 24 | 8×10–8/3×10–7 | 403~413/ 428~443 | — | — | 90 | [ |
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