有机化学 ›› 2025, Vol. 45 ›› Issue (4): 1119-1136.DOI: 10.6023/cjoc202407002 上一篇 下一篇
综述与进展
收稿日期:2024-09-20
修回日期:2024-10-29
发布日期:2024-11-20
基金资助:
Yanqiu Li, Yawei Jia, Pangkuan Chen(
)
Received:2024-09-20
Revised:2024-10-29
Published:2024-11-20
Contact:
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手性π-共轭材料通常展现出优异的光物理性质以及稳定的手性特性, 在有机光电材料领域具有广泛的应用. 由于三芳基硼(Ar3B)独特的电子特性将三芳基硼骨架嵌入到手性π-共轭体系中, 使其体系展现出优异的手性光学特性, 形成手性共轭有机三芳基硼材料, 在化学和材料科学领域均引起广泛关注. 首先介绍了手性共轭有机三芳基硼材料领域的基本概念. 接着, 根据手性来源, 分别从轴手性、螺旋手性、面手性以及中心手性讨论了手性共轭三芳基硼材料的合成策略、结构特性, 并深入探讨了这些材料在吸收、发射、荧光量子效率等手性光电性质和应用方面的最新进展, 这些特性对于手性有机光电器件的性能至关重要. 最后, 对当前研究中的挑战和未来发展趋势进行了展望, 合理预期了手性共轭有机三芳基硼材料的发展潜力和应用前景.
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| Compound | λabs/nm | λem/nm | ΦPL/% | ǀglumǀ(×10-3) |
|---|---|---|---|---|
| 1-2 | 396a | 472 | 58 | 1.53 |
| 2-2 | 332b | 445 | 15 | 0.36 |
| 3-2 | 358b | 436 | 81 | 1.30 |
| 4-2 | — | 459 | 91 | — |
| Compound | λabs/nm | λem/nm | ΦPL/% | ǀglumǀ(×10-3) |
|---|---|---|---|---|
| 1-2 | 396a | 472 | 58 | 1.53 |
| 2-2 | 332b | 445 | 15 | 0.36 |
| 3-2 | 358b | 436 | 81 | 1.30 |
| 4-2 | — | 459 | 91 | — |
| Compound | λabs/nm | λem/nm | ΦPL/% | ǀglumǀ (×10-3) |
|---|---|---|---|---|
| 5-1 | 413a | 443 | 80 | — |
| 6-1 | 422b | 445 | 51 | 6.51 |
| 7-2 | 425b | 452 | 5 | 3.56 |
| 8-1 | 319c | 459 | 21 | 1.56 |
| 9-2 | 381a | 504 | 100 | 4.69 |
| 10-1 | 467d | 500 | 88 | — |
| 11-1 | 627a | 600 | 100 | 33 |
| 12-2 | 505d | 520 | 85 | 1.1 |
| 13-2 | 427d | 444 | 95 | 1.5 |
| 14 | 592 | — | — | 1.7 |
| 15 | 546d | 578 | 98 | 5.8 |
| Compound | λabs/nm | λem/nm | ΦPL/% | ǀglumǀ (×10-3) |
|---|---|---|---|---|
| 5-1 | 413a | 443 | 80 | — |
| 6-1 | 422b | 445 | 51 | 6.51 |
| 7-2 | 425b | 452 | 5 | 3.56 |
| 8-1 | 319c | 459 | 21 | 1.56 |
| 9-2 | 381a | 504 | 100 | 4.69 |
| 10-1 | 467d | 500 | 88 | — |
| 11-1 | 627a | 600 | 100 | 33 |
| 12-2 | 505d | 520 | 85 | 1.1 |
| 13-2 | 427d | 444 | 95 | 1.5 |
| 14 | 592 | — | — | 1.7 |
| 15 | 546d | 578 | 98 | 5.8 |
| Compound | λabs/nm | λem/nm | ΦPL/% | ǀglumǀ(×10-3) |
|---|---|---|---|---|
| 16-1 | 374a | 531 | 46 | 4.24 |
| 17-1 | — | 478 | 98 | 0.54 |
| 18-2 | 345b | 390 | 99 | 4.62 |
| 19 | 553c | 653 | 7.6 | — |
| Compound | λabs/nm | λem/nm | ΦPL/% | ǀglumǀ(×10-3) |
|---|---|---|---|---|
| 16-1 | 374a | 531 | 46 | 4.24 |
| 17-1 | — | 478 | 98 | 0.54 |
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